将来的互联网期间有句传播很广的大实话，只要吊丝才做挑选题，土豪向来都是全要，港基集电就是环球电子财产中的吊丝，哪有精力在四个阵营全数投入研发经费，能死守住一个阵营不被落下太远就已经谢天谢地了。
这件事绝对能够载入人类电子财产的生长史，能够说林本坚博士以一己之力直接击沉了东洋电子财产都不为过，要晓得尼康研发157nm的光源毫不是一个光源的题目，其配套的镜头、光刻胶、化学制剂、车间电路等等几近都是全新的，差未几即是把全部晶圆出产线或者电子财产根本全都换了一遍。
比拟磨镜头这类比较坑爹见效很慢的耐烦活，收缩光的波长就成了晋升光刻机精度最为直接也最为优先的手腕。
光刻机是晶圆出产线中最为核心的出产设备，生长过程也是颠末端数代的更迭。
港基集电作为共和国独一一家能摸到财产前沿尾巴的微电子个人，内部对将来的技术线路天然也是争论不竭，有站队193nm决定只看面前的，有站队153nm的，比拟193nm晋升25%也是晋升对不对，比拟极紫外光反射式Euv光刻，153nm设备的研发难度真是缩小了一个数量级，看起来是个弯道超车的好计划。
得益于东洋强大的电子配套财产气力，环绕着157nm光源，东洋系电子财产链参与出来了无数的大小公司，成果都被一起打折了脊梁，在梁远偷渡之前，东洋广场和谈以后，东洋经济之以是失落长达二十年之久，林本坚博士绝对功不成没。
因为芯片财产属于妙技术行业的原因，前沿和出产一线的联络非常紧密，尝试室的研发窘境很快就传导到了财产界，成果固然193nm的光源还未提高，但将来的阵营已经模糊有了迹象。
从九十年代中期开端，直到梁远偷渡之前，光刻机的光源一向保持在193nm已经靠近二十年，能够说直到或人偷渡位面那一刻，环球统统支流手机、电脑、平板、超等计算机、显卡、路由器的主芯片仍旧是193nm光源光刻出来的，193nm光源成了人类信息期间超高速生长中第一块固执稳定的基石。
如果以大范围贸易性利用为标准线，大抵上看，六十年代是打仗式光刻机、靠近式光刻机的期间，到七十年代光刻机设备支流更新到了投影式光刻机，八十年代更新到步进式光刻机，九十年代更新到步进式扫描光刻机，新世纪初期浸入式光刻机大行其道。
初期光刻机土鳖的很，根基都是从电影摄像机上改革出来的，暴光光源也比较奇葩从光谱红外端到近紫外段用啥的都有，
九十年代初期，光刻机的精度进入到1.0微米以下以后，高压汞灯所供应的356nm波长就显得很大了，是以KrF 激光器成了光刻机的支流光源，其产生的248 nm波长的光源充足把晶圆出产线的线宽推动到纳米期间。
二十一世纪以后，得益于华人科学家林本坚博士的光刻胶上方加水创意，俄然获得大绝招的ASML以侵入式光刻机一举把日系光刻机厂商从云端打入灰尘，只用了不到几年时候就把持了环球70%的光刻机市场。
电子束直写技术因为电子束的特性原因，在精度上能够抢先暴光技术4、五个世代，也就是说在晶圆出产线支流技术为1.0微米的期间，电子束直写技术能够把制程线宽直接推动到0.13微米。
在电子财产光荣193nm光源因为利用范围极广导致研发本钱降落的愉悦压根就没享用几天，光刻光源的收缩之旅直接被卡在193nm没法进步。