首页 > 四合院：贾东旭的逆袭 > 第129章 开启光刻之路
光学体系是光刻机的核心之一，直接影响着光刻机的辩白率和成像质量。体系提取的1986年蔡司镜头设想图纸，让贾东旭如获珍宝。蔡司作为环球光学范畴的巨擘，其镜头设想技术一向处于天下抢先程度。有了这份图纸，贾东旭在光学体系的研发上就有了坚固的根本。同时，体系供应的多层抗反射膜镀膜工艺，能够有效减少光芒反射，进步光学体系的效力和成像质量，进一步晋升了光刻机的机能。
- 技术参数：
“这些参数固然不是最顶尖的，但对于我们来讲，已经是一个很好的起点了。”贾东旭自言自语道，眼神中流暴露果断的信心。
- 引入基于措置器的活动节制算法；
- 辩白率：1.5μm（同期日本尼康为1.2μm）；
“有了这两项技术，机器体系的题目就能迎刃而解了。”贾东旭对机器体系的研发充满了信心。
1. 技术定位
机器厂VCD的研发并出口外洋获得胜利，研发的资金已有，贾东旭每天都在思虑如何操纵体系的嘉奖，为国度和社会做出一番大奇迹。在阿谁电子财产飞速生长的期间，半导体技术成为了各国合作的核心，而光刻机作为半导体制造的核心设备，其首要性不言而喻。贾东旭灵敏地认识到，操纵体系嘉奖的技术提早研发中国光刻机，将是一个极具计谋意义的打算，不但能弥补海内涵这一范畴的空缺，还能让中国在半导体财产中占有一席之地。
有了明白的技术定位，接下来就是如何实现这些目标。荣幸的是，体系为贾东旭供应了一系列强大的技术包，涵盖了光学体系、机器体系和节制体系等光刻机的核心部件。
- 输出高精度气浮事情台技术（定位精度±0.01μm）；
- 光学体系：
1、技术线路挑选
“这蔡司镜头设想图纸和多层抗反射膜镀膜工艺，的确就是雪中送炭啊！”贾东旭镇静地说道，仿佛已经看到了胜利的曙光。
1985年，阳光暖暖地洒在都城燕京的大地上，轻风轻拂，带着一丝但愿与未知的气味。
- 供应主动对准体系（Overlay精度±0.1μm）。
机器体系的精度和稳定性对于光刻机一样相称首要。高精度气浮事情台技术，能够实现晶圆的高精度定位和活动，定位精度达到了±0.01μm，这在当时是非常先进的技术程度。紧密温控计划则能够包管光刻机在事情过程中，各个部件的温度稳定在±0.01℃的范围内，制止因温度窜改而导致的机器变形和精度降落。
- 供应紧密温控计划（±0.01℃）。
- 供应多层抗反射膜镀膜工艺。
要研发光刻机，起首面对的就是技术线路的挑选。在当时，光刻技术首要有打仗式光刻和步进式光刻两种，打仗式光刻技术相对简朴，但精度较低，已经逐步没法满足半导体财产不竭进步的精度需求；而步进式光刻技术则代表着将来的生长方向，固然技术难度大，但辩白率更高，能够满足大范围集成电路制造的要求。
- 光源：汞灯g线（436nm）。
贾东旭看着体系供应的技术质料，心中有了明白的目标：跳过打仗式光刻，直接研发步进式光刻机（Stepper）。这个决定在当时看来是相称大胆的，毕竟海内涵光刻技术方面的研讨还处于起步阶段，直接应战高难度的步进式光刻技术，无疑是一场艰巨的冒险。但贾东旭信赖，仰仗体系供应的先进技术和本身的尽力，必然能够降服重重困难。
2. 体系技术包