第129章 开启光刻之路[第2页/共2页]

- 光学体系：

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节制体系是光刻机的大脑，卖力调和各个部件的事情，实现光刻过程的主动化和高精度节制。基于措置器的活动节制算法，能够快速精确地节制气浮事情台的活动，包管晶圆在光刻过程中的位置精度。主动对准体系则能够实现晶圆与掩膜版的主动对准，Overlay精度达到了±0.1μm，大大进步了光刻的效力和精度。

- 供应多层抗反射膜镀膜工艺。

肯定了目标后，贾东旭开端细心研讨各项技术参数。辩白率1.5μm，固然比不上同期日本尼康的1.2μm，但在海内已经是一个庞大的冲破，并且跟动技术的不竭生长，另有很大的晋升空间；产能60片/小时，对于开端研发的光刻机来讲，也算是一个比较可观的数字；光源挑选汞灯g线，这是当时比较成熟的光刻光源，技术相对稳定，能够满足现阶段的研发需求。